Наиболее перспективными материалами для использования в полупроводниковой электронике на сегодняшний день являются кремний и германий, получившие применение благодаря своим свойствам. Кремний из-за своей распространенности в природе и хорошим полупроводниковым характеристикам ( ширина запрещенной зоны 1,12 эВ при Т=300 К) широко используется в производстве . Ширина запрещенной зоны германия 0,674 эВ при Т=300 К , но его дороговизна не позволяет изготовление элементов полностью из этого материала.
Кремний и германий образуют непрерывный ряд твердых растворов. При переходе от чистых полупроводников к их твердым растворам свойства зонной структуры должны меняться (ширина запрещенной зоны, электропроводность, цена и т.д.). Твердые растворы Ge-Si могут иметь параметры зонной структуры переходные между параметрами Ge и Si. Для повышения быстродействия приборов и процессов используются их твердые растворы. Получение новых материалов с улучшенными характеристиками является актуальной задачей физики полупроводников для внедрения их в производство и улучшения качества и эффективности выпускаемых полупроводниковых приборов и элементов.
Цель настоящей работы - с помощью теоретических расчетов получить минимальное значение ширины запрещенной зоны и максимальное значение электропроводности в материале SixGe1-x в сравнении с чистым Si для различных концентраций Si и Ge.
Проведем расчет зонной структуры данного материала по направлениям [100],[110],[111], составив матрицы для основных состояний по указанным направлениям.
По полученным результатам был построен график (Рисунок 1).
Чтобы получить наименьшие значения запрещенной зоны (меньше 1,12 эВ), монокристалл должен быть выращен в направлении [100] при процентном содержании германия 0-77% и в направлении [111] при процентном содержании германия 77-100%.
Из известных значений ширины запрещенной зоны проведем расчет эффективных масс электронов по направлениям [100],[110],[111] и им перпендикулярным направлениям и легких, средних и тяжелых дырок по направлениям [100],[110],[111].
При расчете эффективных масс электронов и дырок в полупроводниках применяется атомная система единиц, когда масса электрона равна единице.
По полученным результатам были построены графики (Рисунок 2, Рисунок 3).
Из формул следует, если μn~1/mn, а μp~1/mp, то чем меньше значения эффективных масс электронов и дырок, тем выше их подвижность.
Удельная проводимость полупроводникового материала обусловлена движением свободных электронов и дырок: σ=q*n*μn+ q*p*μp, где n и p – концентрации электронов и дырок соответственно. Следовательно, чтобы добиться наибольшей проводимости материала, нужно, чтобы подвижность носителей заряда была максимальной.
Чтобы получить наибольшую подвижность электронов, монокристалл должен быть выращен в направлении [110] при процентном содержании германия 50-100%.
Чтобы получить наибольшую подвижность дырок, монокристалл должен быть выращен в направлении [110], [111], [100] при процентном содержании германия 0-100%.
Список литературы
1. Гусев В.Г., Гусев Ю.М. Электроника: Учеб. пособие для приборостроит. спец. вузов. – 2-е изд., 1991, -622с.
2. Кустов Е.Ф. Основы физики твердого тела: Учебн. пособие по курсам «Физика твердого тела», «Физика полупроводников и диэлектриков». М.: Издательство МЭИ, 2002, - 110с.
3. Кустов Е.Ф., Кустов Д.Е. Энергетическая структура атомов, молекул, твердых тел. – М.: Издательство МЭИ, 2001, - 50с.
4. Ландау Л. Д., Лифшиц Е. М. Теоретическая физика. В 10-ти т. Т. IX. Теория конденсированного состояния: Учеб. пособие. — 4-е изд., 1987, - 448с.